等離子體刻蝕分為兩個過程：首先，等離子體中產生化學活性組分；其次，這些活性組分與固體材料發生反應，形成揮發性化合物，從表面擴散排走。例如，CF4離解產生的F，與S反應生成SiF4氣體，結果是在含Si材料的表面形成了微觀銑削結構。等離子體刻蝕是一個通用術語，包括離子刻蝕、濺射刻蝕以及等離子體灰化等過程。